国产新一代前道光刻机模型亮相进博会

11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在国家会展中心（上海）举行。上海微电子装备（集团）股份有限公司把自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800的模型摆进了中国馆。

展出的模型采用透明剖视设计，可以看到整机的光学光路与内部机电系统走向。按厂方介绍，这一平台是国产标准化的前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两条主流技术路线，高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现了自主可控。

更具体的数据是：关键零部件国产化率突破90%，已完成定型并实现规模化量产；多台设备在国内头部逻辑、存储量产线长期运行，累计支持产线流片超过一千万片，设备有效运行率超过92%。在售的SSC800系列KrF机型与SSB800系列I-line机型，均搭载国产大数值孔径物镜。

需要说清边界：干式光刻机主要面向成熟制程，与浸没式、极紫外光刻并不是同一档次，这次亮相的是装备自主化的阶段性成果，而非先进制程的突破。上海微电子成立于2002年，是目前国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商。